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化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并...

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境。該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各...

PECVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在...

CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，化學氣相沉積設備質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lb...

化學氣相沉積設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重10...

設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，...